乾式粉砕

粉砕はエマルション又はサスペンションの製造にとって重要なプロセスです。 液滴及び粒子の粉砕により、相間の界面が拡大します。 それぞれの相の表面張力に打ち勝つことで、一方の相の微細分散が他方の相の中にできます。 粉砕プロセス中に、連続液相に変形する力が働きます。 IKA分散装置が液滴を破壊する流れ状態を作り出します。 粉砕は、粒径分布(粒子、液滴)をより細かいレンジに移動することで特徴付けられます。 IKAは、プロセステクノロジーが専門ですので、製造された分散材の長時間の安定性のための一つの前提条件である、より小さい粒子径及びよりシャープな粒径分布が必要であることを十分に認識しております。


ソリューション

インライン分散機

	タイプ	概要	用途
	コーンミル MKO	コーンミル	超微細なサスペンションの製造
	ULTRA-TURRAX UTL	１段分散機	粗分散エマルション及びサスペンションの製造
	UTL エコノミーライン	１段分散機、エコノミーライン	粗分散エマルション及びサスペンションの製造
	コロイドミル MK	コロイドミル	超微細なサスペンション及びエマルションの製造
	DISPAX-REACTOR DRS	２段ハイシェアー分散装置、高速タイプ	最もファインなマイクロ・エマルションの製造
	DISPAX-REACTOR DR	３段ハイシェアー分散機	マクロ・エマルション及びファイン・サスペンションの製造

バッチ分散機

	タイプ	概要	用途
	ULTRA-TURRAX UTE	ボトムエントリー型ハイシェアー分散機	エマルション及びサスペンションの製造
	ULTRA-TURRAX UTS	トップエントリー型ハイシェアー分散機、医薬デザイン	エマルション及びサスペンションの製造
	ULTRA-TURRAX UTC	トップエントリー型ハイシェアー分散機	エマルション及びサスペンションの製造

プロセスプラント

	タイプ	概要	用途
	スタンダードプラント SPP	タンク、撹拌機、分散機及び電気コントロールを含んだユニバーサルな混合プラント	効率的な混合、分散及びエマルション及びサスペンション製造中の添加剤の最適な供給
	希釈プラント	希釈プラント	連続混合、又は流動性のある媒体の希釈
	MHDプラント	固体及び液体供給装置、混合・分散装置MHD及び電気コントロールを含む連続混合プラント	１パスで最高80%の固形分濃度が可能な粉体混合及びウェッティング
	ターンキープラント	IKA® 混合テクノロジーに基づく個々のターンキーシステム	あらゆる種類の混合物の製造
	Master Plant MP	タンク、撹拌機、分散機及びHMI付電気コントロールを含んだユニバーサルな混合プラント	効率的な混合、分散、加熱/冷却及びエマルション及びサスペンション製造中の添加剤の最適な供給

固液混合機

	タイプ	概要	用途
	CMX (循環式)	循環プロセスの粉体混合用分散機	粉体の液体へのダストフリー混合
	MHD (連続)	連続プロセスでの粉体混合・分散装置	粉体の液体へのダストフリー連続混合
	DBI (循環)	液体及び粉体組成分の吸引混合、ポンピング及び循環しながら分散ができる機械	エマルション及びサスペンションの製造

パイロットプラント

	タイプ	概要	用途
	magic LAB	各種モジュールが搭載できる製品開発及びプロセス最適化用ラボ装置	連続及び循環プロセスでの混合及び分散
	magic PLANT	粘度のものからまだ流動性がある高粘度のものまでバッチで混合/乳化するラボスケールのプロセスプラント.	非常に広範囲のアプリケーションに対応。化粧品、食品、及び医薬品業界に特に適しています。
	PROCESS-PILOT	プロセスの最適化、プロセスパラメーターの決定及びスケールアップのための各種モジュールを搭載できるラボ及びパイロットスケールの装置	連続及び循環プロセスでの混合・分散。高温、加圧、真空運転も可能。
	LABOR-PILOT	プロセスの最適化、プロセスパラメーターの決定及びスケールアップのための各種モジュールを搭載できるラボ及びパイロットスケールの装置	連続及び循環プロセスでの混合・分散