固形物/液体　攪拌

固形分及び液体の混合は多くの場合、従来の撹拌プロセスで十分達成できます。
扱い易く頑丈でフレキシブルな取付けができるIKAの撹拌機は、固形粒子が溶解可能又は湿潤が容易なものであれば最適な装置となります。

但し素材によっては、シンプルなミキシングは問題を引き起こします。
凝集、エアーの巻き込み、粉塵、及び溶剤の放出等の不要な副作用が従来法では問題となります。固液混合の古典的な撹拌では、バッチ個々の品質のバラつきや原材料のロスを防ぐ確証はありません。大量のバッチを取り扱う場合、プラットフォーム及び再充填のための高所作業が必要になります。IKAは共通のミキシング問題を防ぐためのいくつかの近代的ソリューションを、人件費、洗浄や廃棄費用及びエネルギー等のコストを抑えながら提供することができます。それらは、固形分及び液体添加剤等を取り込むインライン装置となります。

IKAのMHDシステム(特許取得)はワンパスでの効果的な固液混合を実現します。
トラブルフリーな固形物のウェッティング、混合、ホモジナイジング及び分散をワンパスだけで行うことができます。MHD連続固液混合においては、各成分を所定の配合比率で機械に供給されることが重要となります。

IKAのダブルステージ・バッチ・ミキシングシステムCMXは、連続固液混合に対する代替ソリューションとなります。ミキシングチャンバー内で発生する低い圧により、粉体又はその他の固形分のダストフリーな吸引混合ができます。高度なフレキシビリティにより、ウェッティングが難しい粉体や粉体量が多い場合にも対応できます。所定量の粉体又は液体を、混合液の粘度範囲が広くても追加動力無しで濃縮プロセスにより混合します。
そのため、CMXミキシングシステムは高価な供給装置を必要としません。更に装置は混合液の移送用及びCIP用のポンプの役目も果たします。

IKAのもう一つの固液混合用インライン装置DBI(特許取得)も2ステージデザインです。
DBIは負圧を作り出し粉体又は顆粒をミキシングチャンバー内に引き込みます。ステージ1のポンピング・ブレードにより液の高流量を確保します。タンクへの大口径で短いコネクションにより高粘度液でも機能は確保されます。ステージ2で固形分を液体中に分散します。DBI装置付の濃縮システムによる混合中に、シェアーを掛けないポンピングか、又はハイシェアー分散の両方が選択可能です。


ソリューション

撹拌機

	タイプ	概要	用途
	TURBOTRON	撹拌機	溶解プロセスの時間短縮、媒体間の温度交換、液体への粉体通常混合
	ROTOTRON RTS	ジェットフローアジテーター	均質、分散、懸濁、乳化、 曝気、溶解や熱伝導等のプロセス向けのユニバーサルなオーバーヘッド撹拌機.
	RKG-00-Bo	パワフルなメカニカル・コントロールのラボ及びパイロットスケールの撹拌機 (ATEXバージョン)	溶解プロセスの時間短縮、媒体間の温度交換、液体への粉体通常混合

バッチ分散機

	タイプ	概要	用途
	ULTRA-TURRAX UTS	トップエントリー型ハイシェアー分散機、医薬デザイン	エマルション及びサスペンションの製造
	ULTRA-TURRAX UTC	トップエントリー型ハイシェアー分散機	エマルション及びサスペンションの製造
	ULTRA-TURRAX UTE	ボトムエントリー型ハイシェアー分散機	エマルション及びサスペンションの製造

混練機

	タイプ	概要	用途
	連続ニーダー	ラバー・マスターバッチ、プラスティック・マスターバッチ、接着剤、ハードメタルマス、シーリングマス、アニマルフード、シリコンラバー及び高粘度食品の製造	ラバー・マスターバッチ、プラスティック・マスターバッチ、シーリングマス、セラミックマス
	縦型ニーダー	２個の相互に噛み合うデュプレックス型ブレード付PLANETRON® ヘビーデューティーニーダー	デンタルマス、セラミックマス及びプラスティック等の超高粘度物のコンタミ・フリーで強力な混練
	横型ニーダー	水平デュプレックス又は「Z」ブレードのヘビーデューティー・ニーダー HKS 及び HKD	超高粘度混合物の処理、ラバーマス、プラスティック混合物、セラミックマス、プリントインク、カーボンペースト、グラファイト混合物等の製造

プロセスプラント

	タイプ	概要	用途
	Master Plant MP	タンク、撹拌機、分散機及びHMI付電気コントロールを含んだユニバーサルな混合プラント	効率的な混合、分散、加熱/冷却及びエマルション及びサスペンション製造中の添加剤の最適な供給
	MHDプラント	固体及び液体供給装置、混合・分散装置MHD及び電気コントロールを含む連続混合プラント	１パスで最高80%の固形分濃度が可能な粉体混合及びウェッティング
	ターンキープラント	IKA® 混合テクノロジーに基づく個々のターンキーシステム	あらゆる種類の混合物の製造
	スタンダードプラント SPP	タンク、撹拌機、分散機及び電気コントロールを含んだユニバーサルな混合プラント	効率的な混合、分散及びエマルション及びサスペンション製造中の添加剤の最適な供給

固液混合機

	タイプ	概要	用途
	CMX (循環式)	循環プロセスの粉体混合用分散機	粉体の液体へのダストフリー混合
	DR-PB (PMB)	固形分及び液体の高品質の混合・分散用インライン装置	ポリマーのアスファルトへの連続混合
	DBI (循環)	液体及び粉体組成分の吸引混合、ポンピング及び循環しながら分散ができる機械	エマルション及びサスペンションの製造
	MHD (連続)	連続プロセスでの粉体混合・分散装置	粉体の液体へのダストフリー連続混合

パイロットプラント

	タイプ	概要	用途
	PROCESS-PILOT	プロセスの最適化、プロセスパラメーターの決定及びスケールアップのための各種モジュールを搭載できるラボ及びパイロットスケールの装置	連続及び循環プロセスでの混合・分散。高温、加圧、真空運転も可能。
	magic PLANT	粘度のものからまだ流動性がある高粘度のものまでバッチで混合/乳化するラボスケールのプロセスプラント.	非常に広範囲のアプリケーションに対応。化粧品、食品、及び医薬品業界に特に適しています。
	LABOR-PILOT	プロセスの最適化、プロセスパラメーターの決定及びスケールアップのための各種モジュールを搭載できるラボ及びパイロットスケールの装置	連続及び循環プロセスでの混合・分散
	magic LAB	各種モジュールが搭載できる製品開発及びプロセス最適化用ラボ装置	連続及び循環プロセスでの混合及び分散

真空ドライヤー/ミキサー

	タイプ	概要	用途
	コニカルドライヤー CD	コニカルドライヤー	各種流動特性及び嵩密度の湿潤固形分の混合及び乾燥
	コニカルミキサー CM	コニカルミキサー	粉体及び顆粒の混合